Elemente de implementare tehnică Elemente ale metodei de eliberare post-CMOS pentru structurile sensibile la fascicul transversal pentru hidrofoanele vectoriale MEMS

Elemente tehnice de implementare:

5. Pentru a rezolva problema completării eliberării structurii sub premisa de a fi compatibilă cu cmos prin utilizarea procedeului mems, prezenta invenţie furnizează o metodă de eliberare post-cmos pentru structura sensibilă la fascicul transversal a hidrofonului vector mems.

6. Prezenta invenţie se realizează prin următoarele soluţii tehnice: o metodă de eliberare a cmos după o structură sensibilă la fascicul transversal orientată către un hidrofon vector mems, cuprinzând următoarele etape: etapa (1) curățarea organică a cipului cmos pentru a îndepărta impuritățile de suprafață; selectarea cipului cmos, orientarea cristalului „100”, substrat de tip p, stratul de pasivare cu nitrură de siliciu în zona mems de suprafață a fost modelat în procesul cmos.

Contactaţi-ne:

Email: zhang@pride-cnc.com

Tel: plus 86-755-23699351

Mob: plus 8618666663894